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全球刻蝕設備市場
2023-08-15

目前，全球刻蝕機設備的參與者相對較少，行業整體處于寡頭壟斷格局。主要的參與者包括美國的Lam Research（泛林半導體）、AMAT（應用材料）、日...
C4凸點技術
2023-08-15

最早的FC晶圓C4凸點制造技術是IBM公司開發的蒸鍍工藝，目前最常用的方法是電化學沉積或電鍍工藝。芯片凸點的蒸鍍工藝流程如下：將鉬掩模板對中至...
直寫光刻在掩膜版制造過程中的應用
2023-08-14

掩膜版的生產主要包括以下幾個流程：圖形光刻，顯影，蝕刻，脫膜，清洗。其中，圖形光刻是通過光刻機進行激光光束直寫，以完成圖形曝光，掩膜版制造都...
掩膜板的制造和管理
2023-08-14

掩膜板的基材一般為熔融石英（quartz），這種材料對深紫外光（DUV，KrF-248nm，ArF-193nm）具有高的光學透射，而且具有非常低的溫度膨...
最佳曝光劑量的確定
2023-08-11

曝光劑量和曝光時間之間的換算因子為了獲得根據光刻膠技術數據表中給出的推薦曝光劑量確定的正確地曝光時間，必須知道以下內容: · 曝光...
紫外曝光的光反應過程
2023-08-11

曝光：在光刻膠膜中發生的化學過程導致其在顯影液中溶解度的增加(正膠)或減少(負膠)，從而可以產生出特定結構光刻膠膜。基于DNQ-基光引發劑的正膠...

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