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News
2023-09-01
EUV與現有光刻技術的主要區別，在于極紫外投影光刻系統使用了反射式掩模。反射式掩模采用堅固的背支撐結構．可以有效地防止由裝校應力以及熱應力產...
2023-08-30
臨床醫學全面走向個性化醫療診療是當今醫學發展的一大方向，精準的體外診斷技術是正確診療的基本保證。而體外診斷基本主要是基于體液（血液，尿液，唾...
2023-08-30
光刻機的工作過程是這樣的：逐一曝光完硅片上所有的場（field），亦即分步，然后更換硅片，直至曝光完所有的硅片；當對硅片進行工藝處理結束后，更換掩...
2023-08-29
激光直寫光刻(laser direct write lithography，LDWL)作為一種無掩模光刻技術，是利用強度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料實施變劑量曝光，顯影...
