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等離子體刻蝕面臨的挑戰
2023-08-21

近幾十年來，等離子刻蝕技術已取得了長足發展。利用等離子刻蝕技術，人們得以準確地雕刻器件結構，從而為晶體管尺寸的縮小以及性能的提升提供了保障。...
離子注入與傳統熱擴散工藝區別
2023-08-18

離子注入工藝是集成電路制造的主要工藝之一，它是指將離子束加速到一定能量（一般在keV 至Mev 量級范圍內)，然后注入固體材料表層內，以改變材料表層...
電鍍有幾種
2023-08-18

1、五金電鍍分為常規五金包括銅、鎳、硌；高級五金包括金、銀；貴族五金包括金剛石、磚石。分別有掛鍍、滾鍍、龍門鍍，金、銀一般是以首飾掛鍍為主，...
雙重曝光 Double Exposure (DE)
2023-08-17

雙重曝光(Double Exposure, DE)是指在光刻膠覆蓋的晶片上分別進行兩次曝光。兩次曝光是在同樣的光刻膠上進行的，但使用不同的掩模版。雙重曝光工...
刻蝕剖面 Etch Cross-section
2023-08-17

刻蝕剖面指的是被刻蝕圖形的側壁形狀。有兩種基本的刻蝕剖面：各向同性和各向異性刻蝕剖面。各向同性的刻蝕剖面是在所有方向上（橫向和縱向）以相同的...
等離子刻蝕的應用案例
2023-08-16

等離子刻蝕主要應用在微電子制作工藝中，所有主要的處理對象是硅，用于精確圖形轉移。此外其還廣泛應用于等離子刻蝕平板、薄膜刻蝕以及纖維刻蝕中。 1...

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