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芯片封裝新突破：2.5D技術引領性能飛躍
2024-10-15

封裝，是半導體制造流程中不可或缺的一環。它就像一道堅固的屏障，保護著脆弱的電子晶片免受溫度、濕度、灰塵等外界因素的侵害。隨著制程技術的不斷進...
【微納加工】直寫光刻——FPD領域的關鍵技術革新
2024-10-14

直寫光刻技術作為FPD制造領域的核心技術之一，其在ITO陽極圖形化工藝和有機發光層蒸鍍工藝中的應用，不僅推動了OLED顯示技術的快速發展，也為...
快速退火工藝（二）
2023-11-17

鹵素燈管退火（Halogen Lamp Annealing）是一種用燈管作為熱源的退火方式，其特點如下：高溫：鹵素燈管退火的溫度可以達到1300攝氏度以上，可以快...
快速退火工藝（一）
2023-11-17

快速熱退火是用各種熱輻照源，直接照射在樣品表面上，迅速將樣品加熱至700~1200℃左右在幾秒~幾十秒的時間內完成退火。它與常規熱退火相比，有下列優點...
離子鍍膜
2023-10-16

離子鍍是一種在真空環境中，利用高壓氣體放電將鍍料蒸發后離子化，沉積在產品表面形成一層鍍膜的工藝。離子鍍工藝出現于上世紀70年代，是一種...
常規ICP刻蝕的操作流程
2023-10-13

（一）裝片：1，在Pump 界面點擊左邊Pump 圖標下Stop，切換至Vent ，120s 后打開 Loadlock；2，涂抹真空油脂：根據片子尺寸大小，在托盤上涂抹...

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